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直流磁控濺射法制備TiO2自清潔薄膜
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- 直流磁控濺射法制備TiO2自清潔薄膜目錄
摘 要 I
Abstract II
1.1前言 2
1.2 二氧化鈦的初步認識 2
1.2.1 二氧化鈦薄膜的晶體結構及性質 2
1.2.2二氧化鈦光催化原理 4
1.2.3二氧化鈦薄膜的應用 5
1.3二氧化鈦的制備與表征 6
1.3.1二氧化鈦的制備方法 6
1.3.2二氧化鈦薄膜的表征 8
1.4本文研究的主要內容 11
2 主要實驗設備及材料制備 12
2.1實驗設備 12
2.2二氧化鈦薄膜的制備 14
2.2.1基片清洗 14
2.2.2磁控濺射過程 14
3.1不同濺射功率的影響 16
3.1.1實驗數據 16
3.1.2結果與討論 16
3.2不同濺射時間的影響 18
3.2.1實驗數據 18
3.2.2結果與討論 18
3.3不同濺射壓強的影響 20
3.3.1實驗數據 20
3.3.2結果與討論 20
3.4 不同O2/Ar流量比的影響 22
3.4.1實驗數據 22
3.4.2結果與討論 22
3.5 不同離線退火溫度的影響 24
3.5.1實驗數據 24
3.5.2結果與討論 25
3.6小結 26
4 二氧化鈦薄膜光催化性能研究 28
4.1薄膜親水性能研究 28
4.2 薄膜光催化降解有機物性能 29
4.2.1實驗操作步驟 29
4.2.2實驗結果與討論 29
5 結論與展望 32
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